国内半导体产业的高景气&工艺进步为中微提供快速成长通道。1)国内12寸晶圆厂投建驶入快车道,18-21年年均投建规模达2,500亿元,刻蚀设备需求达到1,400亿;2)从20nm到5nm逻辑器件总加工步骤增加2倍,刻蚀设备增加3倍;3)2018年LED下游应用环节产值约6,080亿元,同比增长13.8%,下游景气度持续;4)LED新技术和应用方向的发展催生MOCVD新需求。
   
国际半导体设备新星,在刻蚀和薄膜沉积设备领域稳中突起。中微专注于刻蚀设备和MOCVD设备的研发,截至18年末,中微累计已有1,100多个反应台服务于国内外40余条先进芯片生产线。1)刻蚀设备,在65nm-7nm制程上均有刻蚀应用已实现产业化,正在进行7nm、5nm部分刻蚀应用的客户端验证,CCP/ICP都已经达到或优于国际同类设备水平。特别地,中微在三家国内下游企业采购中的占比均在15%以上,竞争力突出。2)MOCVD设备,中微占据全球MOCVD市场领先地位。15-17年中国MOCVD设备保有量从1,222台增长至1,718台,年均复合增长率达18%,MOCVD设备保有量占全球比例已超40%,18年中微MOCVD占据全球氮化镓基LED用MOCVD新增市场41%,在全球市场中处于领先地位。
   
拥有豪华技术团队,布局更先进制程设备和更广泛应用领域。中微公司的创始人、董事长及总经理尹志尧博士在半导体芯片和设备产业有35年行业经验,是国际等离子体刻蚀技术发展和产业化的重要推动者,公司同时拥有160多位各领域资深技术和管理专家,近三年累计研发投入10.37亿,约占总收入32%,募投项目发展更先进刻蚀及MOCVD设备,通过并购发展更多泛半导体加工设备。
   
投资建议:预计公司2019-2021年的净利润为1.86亿、3.15亿和4.48亿。中微及可比公司所处行业属于新兴高成长行业,收入和利润处于快速增长阶段,我们选取北方华创和长川科技为可比公司,用PS和PE两种方法综合估值,认为中微公司的合理市值区间为(142亿,183亿),对应发行后股价(26.49元,34.17元)。
   
风险提示:下游扩产不及预期;新产品研发转化不及预期